如今，華為的芯片問題已經不是一傢公司的問題，更是受到瞭社會各界的普遍關註，有一點風吹草動就會引起很大反響。

在經過瞭去年的事件之後，很多人都認為華為的芯片不能再繼續研發瞭，但是最近卻傳出新的消息，華為的3納米芯片已經初具雛形，有望在之後推出，但是更多的朋友關心的還是芯片由誰生產的問題。

本期節目就帶大傢一起來分析一下。

近期華為再次申請瞭麒麟處理器的商標，看來華為的3納米芯片麒麟9010也是呼之欲出瞭。

但是我們也明確知道：

華為的芯片設計出來，也沒有合適的代工廠商可以生產。

早在去年的事件中我們就能得出結論，臺積電的技術依賴於美國，所以在合作對象的選擇上並不自由。所以即使它擁有最先進的制程工藝，也無法為華為進行代工。

但是國內制程工藝最為先進的中芯國際，目前的制程工藝隻能達到14納米，至於更高的制程始終未獲突破，所以3納米芯片的生產自然也是做不到的。

但是還有一傢三星公司，雖然在制程上略遜於臺積電，但是其量產時間也和臺積電相當，它能不能為華為進行代工呢？

實際上，三星的技術自主性還是很高的，如果可以和華為達成合作，很可能會為三星自身帶來一個趕超臺積電的機會。畢竟如今三星的制程工藝是和臺積電相當的，但是市場份額卻是天差地別，臺積電占據著54%的市場，三星隻能占據17.4%，可以說，在芯片代工領域，完全是臺積電吃肉，三星喝湯。

但是即使有這樣的好機會，三星也並未達成和華為的合作。並且前段時間，三星和臺積電紛紛加入瞭美國的半導體聯盟SIAC，不管是否出於自願，這個動作已經表明瞭兩傢企業的立場。所以從這一點來看，華為和三大代工巨頭都無緣瞭。

那華為要如何實現芯片的生產呢？

事實上，國內的光刻機發展已經為華為找到瞭突破口。雖然近兩年國內的芯片行業都面臨著巨大的挑戰，但是國內各個領域傳來的突破也是接連不斷。

前段時間，清華大學在EUV光源上就獲得瞭重大的突破，並表示將來有望運用在高端光刻機上。另外，在國內科研團隊的努力之下，雙工件臺也獲得瞭突破，在高精度光源和鏡頭的配合下，理論上已經能夠達到2納米的精度。

要知道，光刻機的制造中，最核心的三項技術就是雙工件臺、EUV光源和光學鏡頭，前面兩項國內已經實現瞭突破，所以光源鏡頭就成為瞭國內光刻機制造的最後突破口。

當然，光源鏡頭技術和前兩者相比，難度也是最大的。

這三項技術在芯片的生產中各司其職，簡單來說，EUV光源提供的就是刻畫光束，雙工件臺負責的就是晶圓的運轉，而光源鏡頭就是對光束進行處理，這樣才能讓極紫外光達到納米級別的精度。

所以三者缺一不可，但是要說哪個技術的作用最大，還是要數光學鏡頭。

我們就拿阿斯麥的一個實際例子來說，在2010年，阿斯麥就已經可以進行EUV光刻機的生產瞭，但是為什麼正式投產時間卻推遲到瞭2019年呢？其中最重要的原因就是因為沒有EUV鏡頭。

目前全球范圍內最好的光學鏡頭公司就是德國的蔡司，這傢公司在鏡頭領域和阿斯麥的地位相當，因為全球隻有這傢公司能夠生產EUV光學鏡頭，這傢公司成立到現在已經經過瞭170年瞭，技術水平可想而知。

但是即使是蔡司生產的高端光學鏡頭也是有限的，因為技術難度實在太高瞭。阿斯麥高端光刻機的產量低也有這方面的原因。

那這種難度到底有多大呢？

實際上，即使是全球頂尖的鏡頭企業蔡司，也不能保證每個鏡頭的制造都能成功。因為這種鏡頭的制造如果隻靠設備是完全不夠的，還需要相應的專業工程師加以幹預。能達到這個技術程度的工程師，蔡司也隻有20個人。

那這麼大的難度，國內要如何進行突破呢？

目前國內的光學鏡頭王者就是長春國科精密，這傢公司目前的水平和蔡司相比還是存在一定差距的。

就比如國科精密在2018年就生產出瞭數值孔徑在0.75NA的鏡頭，但是這種鏡頭僅能夠運用在65到220納米的制程工藝中，和目前國內的光刻機技術基本相稱。蔡司的數值孔徑已經達到瞭0.33SMT NA，可以實現5納米到14納米的制程工藝。

另外，國科精密的這種鏡頭雖然已經生產出來瞭，但是還沒有進行實際的應用，所以國內的企業還需繼續努力。

不過值得高興的是，目前清華大學的研究團隊也開始將光學鏡頭作為重點攻克的對象，之前的技術突破中，清華團隊的貢獻也不小，所以有瞭他們的加入，國產光刻機的研發將更有底氣。

目前，華為還未正式公佈麒麟9010，相信這個芯片問世的時候，國內的光學鏡頭也能傳出好消息。

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