地位堪比芯片，國產光刻技術再次被突破，光刻機也即將打破外企壟斷。最近在半導體領域，真可謂是好事不斷。

大傢都知道芯片對電子產業發展的重要性，而如今國內又一項重要性堪比芯片的技術取得瞭進展，並且最新一代的光刻機也即將下線。

國產光刻技術馬上會迎來發展的新契機，究竟是什麼技術能夠跟芯片相比較呢？

光刻機光源實現國產化

近日國內一傢光學研究所取得瞭一種新技術的突破，名為光學修正技術，該技術對芯片的修正效率極高。

眾所周知光刻技術對芯片的生產研發具有決定意義，眼下芯片的工藝越來越頂尖，光刻技術受到物理極限的影響無法準確進行線路的雕刻，因此光學修正技術應運而生。

它能夠在光刻機工作流程不變的情況下，提高芯片線路的分辨率，從而能夠讓光刻機準確雕刻。

這種技術不僅能夠大大降低光刻生產中的失誤率，還節約瞭成本，對於國產芯片工藝水平的提高有至關重要的作用。

據悉這一技術能夠在90nm及以下的工藝中廣泛應用。

新一代光刻機將問世

不光這一修正技術得到瞭突破，還有一個好消息從光刻行業內傳出，那就是新一代光刻機即將面世瞭。

由於國內的中芯國際目前正在抓緊擴大成熟工藝的產能，未來在手機和電腦領域將會搶占一波市場份額，為瞭響應國產芯片企業的發展步伐，自主研發光刻機的企業也開始瞭新一輪技術的突破，上海微電子就是其中的佼佼者。

前不久，上海微電子宣佈實現瞭光刻機從90nm到新一代制程的飛躍，自2021年起，兩年內實現交付。

這一新款的光刻機最大的亮點是核心技術全部自主研發，徹底擺脫瞭國外光刻機企業的技術壟斷。

日企從中作梗

令人沒想到的是，正當新款光刻機官宣落地之際，多傢日企宣佈切斷瞭中國市場的光刻膠供應。所謂光刻膠就是生產芯片的核心材料，而日本正是國際上的半導體材料巨頭，其把控著國際光刻膠市場中85%的份額。

今年日本地震頻發，導致光刻膠產能出現下滑趨勢，不少國際芯片巨頭都受到瞭嚴重影響，可見日本企業在國際市場中的地位有多高。

其中以東京應化和信越等企業發展規模最大，可以說這些企業一旦宣佈停產或減產，世界半導體的產能都會隨即下降。

因此國內大多數企業都開始選擇國產光刻膠，並不斷驗證可行性。

國產光刻膠實現自研

可是其自主生產率隻有不到5%，面對國內龐大的產能根本就無能為力，例如12英寸晶圓所需的光刻膠至今都難以實現規模量產。

盡管國產化率不高，但是眼下已經逐漸將日本企業壟斷的局面打破，在2020年年底，南大光電加大科研投入，研發出瞭ArF光刻膠，並且得到瞭合作客戶的一致認可，是國內市場第一款性能驗證合格的光刻膠。

而且經過權威機構的檢測表明，南大光電的光刻膠已經足以跟日企的光刻膠相提並論。

該企業已經建成瞭能夠生產25噸光刻膠的生產線，其中的大部分生產設備都是國內企業提供的，不存在被壟斷打壓的風險。

希望國產半導體企業能夠在日企切斷半導體材料供應鏈的情況下，大力擴充產能，提升光刻膠的質量，為國產芯片行業貢獻自己的力量。