近年來，受眾所周知的原因影響，中國在芯片領域被海外壟斷的問題一直是全國關註的焦點。

隨著形勢越來越嚴峻，就連普通消費者也開始關心國內半導體產業的發展現狀。但是，很少有人清楚地知道，國產芯片到底面臨多大的困難。

國產芯片的難題

大多數消費者瞭解到的光刻機，隻是國產芯片發展道路上難以逾越的大山之一。

光刻機

放眼全球光刻機制造領域，隻有荷蘭阿斯麥能夠穩定量產EUV光刻設備。而在阿斯麥的背後，是一條全球化的頂級供應鏈，供應商遍佈世界各地。

更需要註意的是，阿斯麥的極紫外光源，是美國動用舉國之力耗時十幾年研發出來的尖端技術。

EDA軟件

隨著工藝制程的微縮，電路集成度越來越高，能夠實現電路設計的EDA軟件也變得更不可或缺。

但目前全球EDA軟件市場被美國以及日本的三大巨頭壟斷，占有率達到90%以上。美日三巨頭在中國市場的占有率超過95%，中國EDA企業隻能在夾縫中生存。

晶圓

矽晶圓片就是芯片最核心、最基礎的原材料，對於純度的要求非常高。

目前全球矽材料生產制造最有名的企業當屬日本的信越化學、SUMCO、韓國的LG化學以及中國臺灣的環球晶圓。

中國大陸雖然也有矽片制造商，但產能、市場份額以及產品實力上距離國際大廠還有很大差距。

不過，雖然我國在很多關鍵設備或技術上落後於海外，但近年來正在加速追趕，現階段更是取得瞭多項突破。

EDA、光刻技術相繼突破

EDA一直是國傢的攻關重點。為瞭推動EDA工業軟件的發展，我國工信部號召國內11傢企業，組建瞭“軟件聯盟”。

在這個聯盟中，十多傢中國企業分工合作，既實現瞭人才和資源的集中，又在一定程度上縮短瞭研發周期。

筆者相信，在僅剩的5%的市場空間中，國產EDA軟件終將崛起。

此外，在6月上旬中科院也傳來一則好消息。

中科院上海光學精密機械研究所信息光學與光電技術實驗室，提出瞭一種基於虛擬邊與雙采樣率像素化掩模圖形的快速光學鄰近效應修正技術。

這項計算光刻技術具有較高的修正效率，可以起到推動集成電路芯片按照摩爾定律發展的作用。

國產芯片未來可期

除瞭上述突破之外，我國在碳基晶圓、高端光刻膠等技術或材料上也取得瞭令人欣慰的成績。

當然，在技術研發攻關的同時，我國也沒有忘記加大人才培養力度，完善教育體系，為後續的科技研發做準備。

筆者瞭解到，國傢針對集成電路領域的教育層面制定瞭一系列的政策，推動各大知名高校培育更多的專業人才。

值得一提的是，相關企業也與高校達成瞭合作，為專業人才提供實踐平臺，實現產學研融合。

彌補人才缺口的同時，2020年下半年掀起的缺芯潮，則為中國半導體產業帶來瞭絕佳的機遇。

激增的市場需求，一方面有助於國內擴充芯片產能，並建設起本土化成熟工藝產業鏈。另一方面也有助於配套產業的建設，讓相關企業的發展環境更友好。

政策上的支持、市場環境的利好以及中國半導體產業立志打破海外壟斷的決心和激情，都是中國芯片走向世界舞臺的有力支撐。

在國內與相關方面科技競爭常態化的大背景下，中國半導體產業必須要抓住機會，掌握更多的話語權和主動權，國產芯片才能夠未來可期。