在今天凌晨的工藝及封裝技術大會上,Intel公佈瞭最新的工藝路線圖,命名方式也全面改瞭,比如10nm ESF工藝改名為Intel 7,7nm工藝改為Intel 4等等,在宣傳上這次跟臺積電、三星對等瞭。

除瞭全新路線圖之外,Intel的IFS代工業務也收獲瞭一個重要客戶,高通將使用Intel的代工服務,這還是開天辟地頭一次,Intel重整代工業務以來這是目前最大、最重要的客戶。

不過大傢看到Intel生產的高通芯片還很遙遠,因為高通使用的是Intel未來的Intel 20工藝,至少要到2024年才能量產,不跳票的話還得等上3年時間。

等這麼久的原因是Intel的20A工藝變化太大,放棄瞭FinFET工藝,轉向瞭GAA晶體管,Intel開發出瞭兩大革命性技術,分別是RibbonFET、PowerVia。

其中PowerVia是Intel獨有的、業界首個背面電能傳輸網絡,通過消除晶圓正面供電佈線需求來優化信號傳輸。

RibbonFET是Intel對GAA晶體管的實現,它將成為公司自2011年率先推出FinFET以來的首個全新晶體管架構。該技術加快瞭晶體管開關速度,同時實現與多鰭結構相同的驅動電流,但占用的空間更小。

史上第一次 Intel將為高通代工芯片:直奔2大革命性工藝
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